容易に分散可能な沈降シリカ - 知識 - Liuyang Sanji Chemical Co.、Ltd

1、沈殿シリカ以下の物理化学的パラメータにより特徴付けられる：ＢＥＴ表面積１２０〜３００ｍ ² ／ｇＣＴＡＢ表面積１００〜３００ｍ ² ／ｇＢＥＴ／ＣＴＡＢ比０．８〜１．３シアーズ指数（６〜２５ｍｌ０．１ＮＮａＯＨの消費量）ＤＢＰ指数１５０〜３００ｇ／１００ｇｗｋ係数＜３．４分解された粒子の粒径＜１．０μｍ粒子の粒径、非１．０〜１００μｍ。分解性粒子

の製造方法沈殿したシリカ以下の物理化学的パラメータを有する：ＢＥＴ表面積１２０〜３００ｍ ^２／ｇＣＴＡＢ表面積１００〜３００ｍ ^２／ｇＢＥＴ／ＣＴＡＢ比０．８〜１．３シアーズ指数（６〜２５ｍｌ０．１ＮＮａＯＨの消費量）ＤＢＰ指数150〜300 g / 100 g wk係数<><>

アルカリ金属ケイ酸塩を１つ以上の鉱酸と６０〜９５℃の温度で７．０〜１１．０のｐＨで連続的に撹拌しながら反応させ、４０ｇ〜１１０ｇの固形分濃度まで反応工程を継続することを含む。 pHを3から5の間の値に調整し、沈殿したシリカそして、洗浄、乾燥、場合により粉砕しそして場合により粉砕することができる。沈殿したシリカ。

固形分濃度が８０ｇ／ｌ未満であり、温度が８０℃未満であり、沈殿時間が７６分未満であることからなる群から選択される少なくとも１つの条件を含む、請求項２に記載の方法。沈殿は中断されそして希薄または濃鉱酸が使用される。

【請求項４】以下の条件がａ。の製造のために維持される請求項２または３に記載の方法。沈殿したシリカ１２０〜１４０ｍ ^２／ｇのＢＥＴ表面積および３．４未満のｗｋ係数を有する：固形分濃度：６８〜８５ｇ／ｌ温度：７４〜８２℃ｐＨ：８〜９。：水ガラスと硫酸を１５から２５分かけて添加し、添加工程を３０から９０分中断し、水ガラスと硫酸を５０から７０分かけて添加する（総沈殿時間は１３０分）。 140分まで

【請求項５】下記の条件がａ。の製造のために維持される請求項２または３に記載の方法。沈殿したシリカ１４０〜１６０ｍ ^２／ｇのＢＥＴ表面積および３．４未満のＷＫ係数を有する：固形分濃度：４０〜６０ｇ／ｌ温度：８８〜９６℃ｐＨ：７〜９。：水ガラスと硫酸を38〜50分かけて加える。

【請求項６】下記の条件がａ。の製造のために維持される請求項２または３に記載の方法。沈殿したシリカ１６０〜１８０ｍ ^２／ｇのＢＥＴ表面積および３．４未満のｗｋ係数を有する：固形分濃度：６８〜８４ｇ／ｌ温度：５９〜６５℃ｐＨ：８〜９。：水ガラスと硫酸を150〜170分かけて加える。

【請求項７】下記の条件がａ。の製造のために維持される請求項２または３に記載の方法。沈殿したシリカ１８０〜２００ｍ ^２／ｇのＢＥＴ表面積および３．４未満のｗｋ係数を有する：固形分濃度：７４〜９４ｇ／ｌ温度：７５〜８３℃ｐＨ：８〜１０。：水ガラスと硫酸を60〜70分かけて加える。

【請求項８】下記の条件がａ。の製造のために維持される請求項２または３に記載の方法。沈殿したシリカ２００〜３００ｍ ^２／ｇのＢＥＴ表面積および３．４未満のｗｋ係数を有する：固形分濃度：７０〜１１０ｇ／ｌ温度：６０〜７６℃ｐＨ：８〜１０。：水ガラスと硫酸を60〜86分かけて加える。

チャンバーフィルタープレス、メンブレンフィルタープレス、ベルトフィルター、ロータリーフィルター、および自動メンブレンフィルタープレスからなる群から選択される少なくとも１つの部材を使用することを含む、請求項２または３に記載の方法。

フロードライヤー、ラックドライヤー、フラッシュドライヤーおよびスピンフラッシュドライヤーからなる群から選択されるドライヤーを使用することを含む、請求項２または３に記載の方法。

噴霧乾燥機内で、噴霧器、二成分ノズル、一成分ノズルおよび一体型流動化ノズルからなる群から選択される少なくとも１つの部材を用いて液化フィルターケーキを乾燥させることを含む、請求項２または３に記載の方法。ベッド。

顆粒化することを含む、請求項２または３に記載の方法。沈殿したシリカローラーコンパクターで。

13。降水量記号がＺを表す：−ＳＣＮ、−ＳＨ、−Ｃｌ、ＮＨ _２（ｑ＝１の場合）または−Ｓｘ−（ｑ＝２の場合）、ＲおよびＲ _１：アルキル、を含む、請求項１に記載のシリカ。ここで、すべての基ＲおよびＲ _１は、それぞれ同じかまたは異なる意味を有し得る。Ｒ：Ｃ１〜Ｃ _４ - アルキル、Ｃ１〜Ｃ _４ - アルコキシ基。Ｎ：０。１または２、Ａｌｋ：１〜６個の炭素原子を有する二価の直鎖または分岐の炭化水素基、ｍ：０または１、Ａｒ：６〜１２個のＣ原子を有するアリーレン基、Ｐ：０または１。ただし、ｐおよびｎは同時に０を示さないという条件で、Ｘ：２〜８の数、アルキル：１〜２０個の炭素原子、好ましくは２〜８個の炭素原子を有する一価の直鎖または分岐の不飽和炭化水素基。２〜２０個の炭素原子、好ましくは２〜８個の炭素原子を有する一価の直鎖状または分枝状の不飽和炭化水素基。

【請求項１４】請求項１３に記載のシリカの製造方法であって、以下の工程を含む方法。沈殿した 100部に基づいて0.5〜50部の混合物中のオルガノシランを有するシリカ沈殿したシリカ間の反応を実行する沈殿したシリカそして、混合物の調製中または混合物の噴霧およびそれに続く熱処理によるか、またはシランと有機シランシリカその後の乾燥および熱処理を伴う懸濁液。

充填剤として、を含む加硫可能なゴム混合物および加硫ゴム。沈殿したシリカ請求項１に記載の方法 。